德國Hellma CaF2:Eu晶體材料適用于激光光學器件

德國Hellma GmbH & Co. KG是一家成立于1922年的公司，由Karl Mayer創(chuàng)立。Hellma最初以生產(chǎn)簡單的光學玻璃比色皿起家，這些產(chǎn)品主要用于旋光、比色和分光光度測試。隨著科學行業(yè)的興旺，特別是五十年代，比色測試成為了定性分析和定量分析的常用方法，Hellma也積極開發(fā)和擴展其產(chǎn)品系列以滿足新型比色皿的迅速增長需求。

主要產(chǎn)品：

Hellma比色皿

Hellma晶體材料

Hellma光學材料

Hellma光學玻璃

Hellma光學元件

Hellma晶體材料CaF2:Eu

抗震性和抗熱沖擊能力：CaF2:Eu晶體具有很強的抗震性和抗熱沖擊能力，這使得它能夠在惡劣的環(huán)境中穩(wěn)定工作。

機械加工性能：該晶體具有良好的機械加工性能，便于制造成各種形狀和尺寸的探測器。

探測能力：CaF2:Eu晶體在低能伽馬射線和帶電粒子（尤其是β射線）探測方面表現(xiàn)出色，廣泛應用于低能核物理實驗和相關領域。

閃爍性能：作為一種閃爍晶體，CaF2:Eu在受到輻射照射時能夠產(chǎn)生閃爍，這些閃爍可以被光電倍增管（PMT）或其他探測器轉換為電信號，用于輻射的檢測和測量。

應用領域：由于其優(yōu)異的閃爍特性和探測能力，CaF2:Eu晶體被廣泛應用于環(huán)境監(jiān)測、核醫(yī)學、高能物理、安檢以及核素識別等領域。

光學特性：作為Hellma品牌的光學材料，CaF2:Eu晶體繼承了CaF2基質(zhì)材料的優(yōu)良光學特性，包括高寬帶透射率、低折射率和低光譜色散，使其在UV、VIS和IR光譜范圍內(nèi)都有出色的表現(xiàn)。

激光耐久性：CaF2:Eu晶體具有出色的激光耐久性，適用于Excimer激光光學器件（157nm、193nm、248nm）。

高能粒子和輻射耐受性：該晶體還具有合格的高能粒子和輻射耐受性，使其能夠在高輻射環(huán)境下使用。

型號示例：

Hellma晶體材料CaF2:Eu

Hellma晶體材料LBC:Ce

Hellma晶體材料CeBr3

Hellma晶體材料Yb3+

Hellma晶體材料BaF2

Hellma晶體材料CaF2

Hellma晶體材料CVD Zinc Sulfide

Hellma晶體材料Cleartran

Hellma晶體材料CVD Zinc Selenide

德國Hellma CaF2:Eu晶體材料適用于激光光學器件